芯融微總部簽約落戶蘇州工業(yè)園區(qū),預(yù)計(jì)年內(nèi)量產(chǎn)
關(guān)鍵詞: 芯融微 光掩膜基板 國產(chǎn)替代 蘇州工業(yè)園區(qū)
5 月 19 日上午,由蘇州國際科技園(SISPARK)引進(jìn)的先進(jìn)半導(dǎo)體企業(yè)——芯融微(蘇州)科技有限公司正式簽約入駐位于蘇州工業(yè)園區(qū)的恒泰智造?半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)園。
芯融微專注于中高端光掩膜基板的國產(chǎn)化替代,聚焦半導(dǎo)體先進(jìn)制程、平板顯示高精度領(lǐng)域,兼顧中低端市場,成為集研發(fā)、生產(chǎn)、銷售、技術(shù)服務(wù)于一體的專業(yè)化光掩膜基板供應(yīng)商,助力國內(nèi)半導(dǎo)體、顯示產(chǎn)業(yè)鏈自主可控。公司核心團(tuán)隊(duì)均在行業(yè)有 10-20 年的從業(yè)經(jīng)驗(yàn),在光掩膜基板制造中的拋光、勻膠、鍍膜等關(guān)鍵工藝領(lǐng)域有著深厚的積累。
業(yè)內(nèi)人士表示,光掩膜基板 Blank Mask(空白掩模)是半導(dǎo)體光刻工藝中的核心材料,當(dāng)前光掩膜基板國產(chǎn)化率低,海外企業(yè)高度壟斷,芯融微落戶蘇州工業(yè)園區(qū),將有力推動該關(guān)鍵材料的國產(chǎn)化進(jìn)程,實(shí)現(xiàn)供應(yīng)鏈的安全可控。
據(jù)芯融微總經(jīng)理周志剛介紹,芯融微預(yù)計(jì)將在今年6月入駐、9月試生產(chǎn),計(jì)劃年內(nèi)實(shí)現(xiàn)量產(chǎn),2027年啟動半導(dǎo)體研發(fā)項(xiàng)目,用硬實(shí)力推動企業(yè)成長。