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國內(nèi)首款!華中大團(tuán)隊(duì)成功研發(fā)計(jì)算光刻EDA軟件

2022-12-01 來源:互聯(lián)網(wǎng)
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關(guān)鍵詞: 計(jì)算光刻EDA軟件 OPC

近日,華中科技大學(xué)機(jī)械學(xué)院劉世元教授團(tuán)隊(duì)成功研發(fā)出我國首款完全自主可控的OPC軟件,并已在相關(guān)企業(yè)實(shí)現(xiàn)成果轉(zhuǎn)化和產(chǎn)業(yè)化,填補(bǔ)了國內(nèi)空白。



光刻成像原理圖(Source:華中科技大學(xué))


劉世元介紹,光刻是芯片制造中最為關(guān)鍵的一種工藝,就是通過光刻成像系統(tǒng),將設(shè)計(jì)好的圖形轉(zhuǎn)移到硅片上。隨著芯片尺寸不斷縮小,硅片上的曝光圖形會產(chǎn)生畸變。

在90nm甚至180nm以下芯片的光刻制造前,都必須采用一類名為OPC(光學(xué)臨近校正)的算法軟件進(jìn)行優(yōu)化。沒有OPC,所有IC制造廠商將失去將芯片設(shè)計(jì)轉(zhuǎn)化為芯片產(chǎn)品的能力。



計(jì)算光刻OPC原理圖(Source:華中科技大學(xué))


目前,全球OPC工具軟件市場完全由Synopsys、Mentor、ASML-Brion等三家美國公司占領(lǐng)。

劉世元是華中科技大學(xué)集成電路測量裝備研究中心、光谷實(shí)驗(yàn)室集成電路測量檢測技術(shù)創(chuàng)新中心主任。

研制的儀器、軟件、測量裝備等多項(xiàng)成果已實(shí)現(xiàn)成果轉(zhuǎn)化和產(chǎn)業(yè)化,在中芯國際、長江存儲、華為、京東方、華星光電等微電子、光電子龍頭企業(yè)獲得批量應(yīng)用。