三星電子4納米工藝良率接近臺(tái)積電
2023-04-18
來源:集微網(wǎng)
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據(jù)BusinessKorea報(bào)道,推特爆料人Revegnus 4月17日表示,三星的4納米制程良率目前已非常接近臺(tái)積電。
Revegnus表示,三星的良率恢復(fù)速度快于預(yù)期,而臺(tái)積電的3納米制程良率目前為63%或更低。
三星有望在其4納米工藝中取得可觀的良率提升,據(jù)許多業(yè)內(nèi)消息人士透露,三星很可能已將其4納米工藝的良率從大約60%提高到至少70%,而臺(tái)積電的良率估計(jì)在80%左右。
在3月上旬,有消息稱高通將發(fā)布的驍龍7+ (Snapdragon 7+ Gen 1)處理器將采用臺(tái)積電的4納米制程,這證明臺(tái)積電比三星的4納米制程更高效。三星在過去幾年面臨著效率和良率不好的問題,高通或許正慢慢地將訂單從三星代工廠轉(zhuǎn)移到臺(tái)積電。
高通曾表示,未來3、4納米AP芯片將由臺(tái)積電代工,不過進(jìn)入GAA制程后,有可能采取同步下單三星、臺(tái)積電等多家代工廠的多供應(yīng)商策略。
此外有報(bào)道稱盡管三星在4納米和5納米存在問題,但據(jù)報(bào)道其3納米 GAA要好得多。甚至有傳言稱它比臺(tái)積電的3納米更好,一些謠言還聲稱Snapdragon 8 Gen 3將使用三星的3納米 GAA,但媒體也稱,應(yīng)該對(duì)這種說法持懷疑態(tài)度。
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