中商情報網(wǎng)訊：光刻膠又稱光致抗蝕劑，是指通過紫外光、電子束、離子束、X射線等的照射或輻射，其溶解度發(fā)生變化的耐蝕劑刻薄膜材料，是半導體制造中使用的核心電子材料之一。伴隨著晶圓制造規(guī)模持續(xù)提升，中國有望承接半導體光刻膠產(chǎn)業(yè)鏈轉(zhuǎn)移。

市場規(guī)模

目前，我國光刻膠產(chǎn)業(yè)鏈雛形初現(xiàn)，從上游原材料、中游成品制造到下游應用均在逐步完善，且隨著下游需求的逐漸擴大，光刻膠市場規(guī)模顯著增長。中商產(chǎn)業(yè)研究院發(fā)布的《2024-2029全球及中國光刻膠和光刻膠輔助材料行業(yè)發(fā)展現(xiàn)狀調(diào)研及投資前景分析報告》顯示，我國光刻膠市場規(guī)模由2017年58.7億元增至2022年98.6億元，年均復合增長率為10.9%。中商產(chǎn)業(yè)研究院分析師預測，預計2023年我國光刻膠市場規(guī)模可達109.2億元。

數(shù)據(jù)來源：中商產(chǎn)業(yè)研究院整理

企業(yè)布局情況

在“進口替代”的趨勢下，光刻膠市場擁有極大的國產(chǎn)替代空間，現(xiàn)有上市公司加速光刻膠產(chǎn)能的布局，具體如圖所示：

資料來源：中商產(chǎn)業(yè)研究院整理