西門(mén)子數(shù)字化工業(yè)軟件近日在臺(tái)積電“2021在線技術(shù)研討會(huì)”上宣布，其 Calibre^? nmPlatform 工具和 Analog FastSPICE?平臺(tái)現(xiàn)已通過(guò)臺(tái)積電的 N3 和 N4 先進(jìn)工藝認(rèn)證。

臺(tái)積電基礎(chǔ)設(shè)施管理部副總裁 Suk Lee 表示：“作為臺(tái)積電長(zhǎng)期的生態(tài)系統(tǒng)合作伙伴，西門(mén)子EDA工具持續(xù)通過(guò)臺(tái)積電最新的工藝認(rèn)證，展現(xiàn)了其在設(shè)計(jì)支持方面的卓越能力。我們期待與西門(mén)子繼續(xù)合作，協(xié)助我們的共同客戶(hù)在芯片領(lǐng)域不斷取得成功，滿(mǎn)足當(dāng)今市場(chǎng)日益嚴(yán)苛的功耗和性能需求。”

西門(mén)子的 Analog FastSPICE平臺(tái)現(xiàn)已通過(guò)臺(tái)積電的 N3 和 N4 工藝認(rèn)證，可提供領(lǐng)先的納米級(jí)模擬、射頻（RF）、混合信號(hào)、存儲(chǔ)器和定制化數(shù)字電路驗(yàn)證功能。

此外，西門(mén)子 Calibre nmPlatform 的多個(gè)工具近來(lái)獲得了臺(tái)積電的 N3 工藝認(rèn)證，包括 Calibre^? nmDRC 軟件、Calibre SmartFill、Calibre^? PERC 軟件、Calibre xACT 和 Calibre^? nmLVS 軟件；其中，西門(mén)子的 Calibre^? nmDRC 軟件、Calibre SmartFill、Calibre^? PERC 軟件和 Calibre^? nmLVS 軟件還獲得了臺(tái)積電的 N4 工藝認(rèn)證。

西門(mén)子數(shù)字化工業(yè)軟件 IC/EDA 執(zhí)行副總裁 Joe Sawicki 表示：“西門(mén)子與臺(tái)積電在每個(gè)新工藝節(jié)點(diǎn)的早期階段就開(kāi)始合作，幫助晶圓代工廠為我們的共同客戶(hù)提供開(kāi)箱即用、高性能、高精度的設(shè)計(jì)平臺(tái)。我們很高興能夠成為臺(tái)積電長(zhǎng)期的合作伙伴，這意味著我們的客戶(hù)能夠一直使用最先進(jìn)的性能和功率效率。”