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武漢光谷規(guī)劃新增10座晶圓廠

2025-12-02 來源:國(guó)際電子商情
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關(guān)鍵詞: 武漢光谷,化合物半導(dǎo)體,產(chǎn)業(yè)規(guī)模,技術(shù)創(chuàng)新,產(chǎn)業(yè)規(guī)劃

近日,武漢光谷化合物半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)交流會(huì)隆重舉行。

據(jù)會(huì)上披露,2025年光谷半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)規(guī)模將正式突破1000億元,武漢有望躋身北京、上海、深圳、無錫之后的“半導(dǎo)體第五城”。在這一千億規(guī)模中,硅基半導(dǎo)體與化合物半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)規(guī)模比例為4:1,化合物半導(dǎo)體已明確成為光谷半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的第二發(fā)展曲線。

目前,光谷已形成以九峰山實(shí)驗(yàn)室為核心、占地10平方公里的九峰山科技園,集聚長(zhǎng)飛光纖、先導(dǎo)稀材等多家上下游企業(yè),覆蓋“材料—設(shè)計(jì)—制造—封裝測(cè)試—設(shè)備”全產(chǎn)業(yè)鏈條。

在技術(shù)創(chuàng)新層面,九峰山實(shí)驗(yàn)室作為核心創(chuàng)新極核,已實(shí)現(xiàn)多項(xiàng)全球領(lǐng)先突破——成功研發(fā)國(guó)際首創(chuàng)8英寸硅基氮極性氮化鎵襯底,打破國(guó)際技術(shù)壟斷,同時(shí)推出全球首片8英寸硅光薄膜鈮酸鋰光電集成晶圓,為射頻通信、自動(dòng)駕駛等前沿領(lǐng)域提供關(guān)鍵支撐。

在產(chǎn)業(yè)落地方面,投資120億元的先導(dǎo)稀材高端化合物半導(dǎo)體材料及芯片產(chǎn)業(yè)化基地,從簽約到實(shí)質(zhì)開工僅4個(gè)月,預(yù)計(jì)2025年底部分投產(chǎn),將填補(bǔ)光通信及激光產(chǎn)業(yè)所需半導(dǎo)體襯底空白;長(zhǎng)飛先進(jìn)武漢基地作為國(guó)內(nèi)最大碳化硅芯片生產(chǎn)基地,已進(jìn)入設(shè)備調(diào)試階段,即將實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)通線,年產(chǎn)36萬片6英寸碳化硅晶圓。

按照規(guī)劃,在“十五五”期內(nèi),光谷將以九峰山實(shí)驗(yàn)室等創(chuàng)新載體為圓心,全力建成存儲(chǔ)、化合物半導(dǎo)體兩大千億街區(qū),預(yù)計(jì)新增10座晶圓廠,芯片總產(chǎn)能有望達(dá)到50萬片/月,進(jìn)一步鞏固其在全國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)格局中的重要地位。

責(zé)編:Momoz