ASML CEO:中國(guó)不太可能獨(dú)立造出頂尖光刻機(jī),但也不是絕對(duì)
ASML有多重要,ASML生產(chǎn)的EUV光刻機(jī)有多重要,相信每一個(gè)關(guān)注芯片產(chǎn)業(yè)的人都清楚。
在當(dāng)前情況之下,任何一家芯片企業(yè),如果工藝想進(jìn)入7nm及以下,ASML的EUV光刻機(jī)就必不可少,因?yàn)橹挥兴軌蛏a(chǎn)。

但ASML沒(méi)有完全的自主權(quán),他無(wú)法真正的決定將自己的EUV光刻機(jī)賣給誰(shuí),最終它還得聽(tīng)美國(guó)的,比如ASML在2018年的時(shí)候,就想向中國(guó)出口最先進(jìn)的EUV光刻機(jī),最后美國(guó)不允許他賣,所以4年過(guò)去了,這臺(tái)EUV光刻機(jī)都沒(méi)交貨。
也正因?yàn)槿绱耍灾袊?guó)一直在努力的研發(fā)自己的光刻機(jī),特別是EUV光刻機(jī),一旦中國(guó)廠商能夠生產(chǎn)EUV光刻機(jī)了,那么ASML就徹底的沒(méi)有競(jìng)爭(zhēng)力了。

但近日,阿斯麥(ASML)CEO溫彼得(Peter Wennink)表示。“中國(guó)不太可能獨(dú)立復(fù)制(replicate)出頂尖的光刻技術(shù)?!?/span>
不過(guò)這樣說(shuō)完之后,他還是做了補(bǔ)充:“這也并不是絕對(duì)不可能,因?yàn)橹袊?guó)的物理定律和我們這里是一樣的”。
那么頂尖光刻機(jī)的難點(diǎn)到底在哪里?其實(shí)主要有三塊,一塊是曝光光源,也就是極紫外線的產(chǎn)生。

第二塊是對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng),也就是如何將產(chǎn)生的紫外線收集起來(lái),并使其具有方向性和精準(zhǔn)度。第三部分才是透光鏡頭等技術(shù)的整合。
而這三部分之中,前兩部分其實(shí)都不完全算是ASML的技術(shù),是ASML整合德國(guó)TRUMPF、德國(guó)的蔡司公司的產(chǎn)品和技術(shù)。第三塊才主要是ASML的技術(shù)。
但一臺(tái)EUV光刻機(jī),有超過(guò)10萬(wàn)個(gè)零件,來(lái)自于上千家供應(yīng)鏈,如果中國(guó)想要獨(dú)立的制造出來(lái),意味著需要上千家供應(yīng)鏈崛起,然后都達(dá)到頂尖水平,這個(gè)確實(shí)比較難。

不過(guò)溫彼得最后補(bǔ)充的話,也是留了余地的,那就是也并不是不可能,還是有可能的。畢竟溫彼得在去年4月份還說(shuō)過(guò),“出口管制將加快中國(guó)自主研發(fā),15年時(shí)間里他們將做出所有的東西”。
那么15年內(nèi),是中國(guó)研發(fā)出全球最頂尖的光刻機(jī),還是ASML放開(kāi)出口?
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